Ein Gastbeitrag von Dr. Manfred Lisec Die DDR hat in der Mikroelektronik nicht nur vom Westen und von Japan abgekupfert, wie oft gesagt und veröffentlicht wird, sondern neben der eigenständigen und unabhängigen Nachentwicklung von Standardtechnologien der Mikroelektronik – unter anderem durch Prof. Dr. Werner Hartmann – auch an eigenen prinzipiell neuen Fertigungsverfahren gearbeitet. Dazu gehörte die Ionenlithografie, damals „Ionenprojektionsverfahren“ (IPV) genannt. Gerade dieses Verfahren hatte das Potential, womöglich bahnbrechend für die Halbleiterindustrie zu werden. Ein Erfolg war diesem ambitionierten Entwicklungsprojekt allerdings nicht beschieden. Nachdem der erste Teil des Spezials zur DDR-Ionenlithografie „Die DDR hoffte auf Ionen-Abkürzung in die Nano-Chipwelt“ [1] bereits einige technische Aspekte des Projektes beleuchtet hat, gibt unser Gastautor Dr. Manfred Lisec im folgenden Beitrag eine kurze Übersicht über die Geschichte der Ionenstrahllithografie beziehungsweise des Ionenprojektionsverfahren in der DDR. Er stützt sich dabei auf Dokumente im Hauptstaatsarchiv Sachsen [2], persönliche Erinnerungen und weitere Quellen. Er war 1979 bis 1985 Projektverantwortlicher für das Ionenprojektionsverfahren im Institut für Mikroelektronik Dresden“ (IMD), dem späteren „VEB Zentrum für Forschung und Technologie Mikroelektronik“ (ZFTM). Zur Geschichte der Ionenstrahllithografie …
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